enflasyonemeklilikötvdövizakpchpmhp
DOLAR
45,0098
EURO
52,8050
ALTIN
6.815,04
BIST
14.409,07
Adana Adıyaman Afyon Ağrı Aksaray Amasya Ankara Antalya Ardahan Artvin Aydın Balıkesir Bartın Batman Bayburt Bilecik Bingöl Bitlis Bolu Burdur Bursa Çanakkale Çankırı Çorum Denizli Diyarbakır Düzce Edirne Elazığ Erzincan Erzurum Eskişehir Gaziantep Giresun Gümüşhane Hakkari Hatay Iğdır Isparta İstanbul İzmir K.Maraş Karabük Karaman Kars Kastamonu Kayseri Kırıkkale Kırklareli Kırşehir Kilis Kocaeli Konya Kütahya Malatya Manisa Mardin Mersin Muğla Muş Nevşehir Niğde Ordu Osmaniye Rize Sakarya Samsun Siirt Sinop Sivas Şanlıurfa Şırnak Tekirdağ Tokat Trabzon Tunceli Uşak Van Yalova Yozgat Zonguldak
İstanbul
Açık
21°C
İstanbul
21°C
Açık
Pazartesi Açık
16°C
Salı Parçalı Bulutlu
16°C
Çarşamba Az Bulutlu
18°C
Perşembe Hafif Yağmurlu
15°C

Samsung’dan 10nm Altı DRAM Teknolojisinde Devrim

Samsung, 10nm altı üretim teknolojisi ve yeni 4F hücre yapısı ile DRAM kapasitesini yüzde 50’ye kadar artırmayı hedefliyor.

Samsung’dan 10nm Altı DRAM Teknolojisinde Devrim
26.04.2026 23:20
3
A+
A-

Samsung, 10 nanometre altı üretim teknolojisini kullanan dünyanın ilk bağımsız DRAM modülünü başarıyla üretti. Şirket, bu yeni teknolojiyle birlikte bellek kapasitesinde önemli bir artış hedefliyor.

DRAM endüstrisi uzun süredir entegre devre üretimi için 10nm süreç teknolojisine güveniyordu. Samsung, 10a olarak adlandırılan yeni nesil üretim süreciyle bu sınırı aşarak tek haneli nanometre seviyesine inmeyi başardı.

Yeni 4F Hücre Yapısı ve VCT Teknolojisi

Samsung, 10a üretim sürecinde 4F kare hücre yapısı ve Dikey Kanal Transistörü (VCT) teknolojisini ilk kez uyguladı. Bu teknik yenilikler sayesinde üretim sürecinin 9.5 ile 9.7nm arasına ölçeklenmesi bekleniyor.

Mevcut DRAM ürünlerinde kullanılan 6F yapısı, 3Fx2F ölçülerinde dikdörtgen bir blok oluşturuyor. 4F yapısına geçiş, 2Fx2F boyutlarında daha kare bir yapı sunarak hücre yoğunluğunu yüzde 30 ile yüzde 50 arasında artırıyor.

Bu yapısal değişiklik, sadece daha yoğun bir kapasite sağlamakla kalmıyor, aynı zamanda enerji tasarrufuna da katkıda bulunuyor. Samsung, bu yeni teknolojide silikon yerine İndiyum Galyum Çinko Oksit (IGZO) gibi yeni malzemelerden yararlanıyor.

IGZO kullanımı, daralan hücrelerdeki sızıntıları azaltarak veri tutarlılığını korumaya yardımcı oluyor. Şirket, 10a DRAM geliştirme sürecini bu yıl içinde tamamlamayı ve 2028 yılında seri üretime geçmeyi planlıyor.

Gelecek Nesil DRAM Yol Haritası

Samsung, 4F hücre yapısını 10a neslinde kullanmaya başlayacak ve bu teknolojiyi 10b ile 10c nesillerinde daha da geliştirecek. 10d DRAM nesli ile birlikte ise 2029-2030 yılları arasında 3D DRAM teknolojisine geçiş yapılması hedefleniyor.

Sektördeki diğer üreticiler farklı stratejiler izliyor. Micron gibi rakipler 4F planlarını beklemeye alarak doğrudan 3D DRAM teknolojisine odaklanmayı tercih ediyor.

Çinli üreticiler ise gelişmiş litografi ekipmanlarına erişim kısıtlamaları nedeniyle 3D DRAM üretiminde zorluklarla karşılaşıyor. Ancak 3D DRAM tasarımının 3D NAND yapısına benzerliği, bu üreticiler için bir umut kaynağı olarak görülüyor.

Artan yapay zeka talebini karşılamak amacıyla 3D DRAM geliştirme çalışmaları dünya genelinde hız kazanıyor. Samsung’un bu yeni teknolojisi, bellek pazarındaki rekabetin seyrini değiştirecek gibi görünüyor.

Sizce Samsung’un bu yeni 4F hücre yapısı, bellek teknolojilerinde beklenen büyük değişimi başlatacak mı?

ETİKETLER: , , , ,
Yorumlar

Henüz yorum yapılmamış. İlk yorumu yukarıdaki form aracılığıyla siz yapabilirsiniz.